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描述：層壓板
印制電路用覆銅箔 環(huán)氧玻璃布層壓板
本產(chǎn)品由電工用無堿玻璃纖維浸以環(huán)氧樹脂，一面或兩面覆銅箔，經(jīng)熱壓而成的覆銅箔層壓板（以下簡稱覆箔板）。
型 號(hào)
特 性
CEPGC-31
通用性
CEPGC-32F
阻燃型
3.1 外觀 A:覆箔板的端面應(yīng)整齊，不得有分層和裂紋。 B: 覆銅箔面不允許有影響使用的氣泡皺紋、針孔、深的劃痕、麻點(diǎn)和膠點(diǎn)。任何變色或污垢應(yīng)能容易地用密度為1.02g/cm3的鹽酸溶液或合適的有機(jī)溶劑擦去。 C: 層壓面不允許有影響使用的氣泡、壓坑、劃痕、缺膠及外來雜質(zhì)等缺陷。 3.2:覆箔板應(yīng)符合表2所列的其他各項(xiàng)非電性能要求。 3.3:銅箔全部去除后絕緣基材的非電性能。 3.3.1:絕緣基材不允許有影響使用的麻點(diǎn)、孔穴缺膠、白斑、疏松和外來的雜質(zhì)（包括已固化的樹脂顆粒）顏色均勻*，允許有少量顏色無規(guī)則的變化。 3.3.2:覆箔板按GB/T4722第3章的規(guī)定全部去除銅箔后，絕緣基材的性能應(yīng)符合表3的規(guī)定。
序 號(hào)
指 標(biāo) 名 稱
試驗(yàn)方法 GB/T4722-92 中的章
指 標(biāo)
1
拉脫強(qiáng)度，N 不小于
15
60
2
剝離強(qiáng)度，N/mm 不小于 20s浸焊后 ≥35μm銅箔 18μm銅箔 經(jīng)125℃干熱后 ≥35μm銅箔 18μm銅箔 暴露于1.1.1-三氯乙烷 ≥35μm銅箔 乙烷溶劑蒸氣后 18μm銅箔 經(jīng)模擬電鍍條件處 ≥35μm銅箔 理后 18μm銅箔 在125℃時(shí)2） ≥35μm銅箔 18μm銅箔 在260℃時(shí)2） ≥35μm銅箔 18μm銅箔
16
1.4 1.1 1.4 1.1 1.4 1.1 1.1 0.9 0.9 0.7 0.075 0.06
1.4 1.1 1.4 1.1 1.4 1.1 0.3 0.65 0.9 0.7 0.075 0.06
3
20s熱擊后起泡試驗(yàn)
17
不分層、不起泡
4
可焊性3），s 潤濕試驗(yàn) 35μm銅箔 板厚0.5mm至1.6mm 板厚1.6mm以上至6.4mm 70μm銅箔 半潤濕試驗(yàn)
20
2 3 3 5+10
5
沖孔性
18
按供需雙方協(xié)商
彎曲強(qiáng)度，MPa不小于 （板厚 1.0mm及以上）
25
300
可燃性，級(jí)垂直法
26
FV0或FV1
吸水性（mg板厚）不大于 0.5mm 0.7mm 0.8mm 1.0mm 1.2mm 1.5mm 1.6mm 2.0mm 2.4mm 3.2mm 6.4mm
27
20 20 20 20 20 20 20 21 22 25 32
白斑
28
無起泡、無白斑、無分層
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